IB-19530CP 截面样品制备装置
产品介绍：
IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。
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主要技术指标
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离子加速电压 |
2～8kV |
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刻蚀速率 |
500μm/h |
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承载样品的最大尺寸 |
11mm(宽度)×10mm(长度)×2mm(厚度) |
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样品摆动功能 |
刻蚀过程中，样品自动摆动±30° (专利：第4557130号) |
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自动加工开始模式 |
达到设定的压力值后可自动开始加工。 |
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间歇加工模式 |
脉冲控制离子束流照射，可以抑制加工时产生的热量。 |
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精抛加工模式 |
主加工结束后，自动开始精抛加工。 |
典型应用：
材料科学
型号Model：IB-19530CP
品牌Brand：JEOL
IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。
品牌Brand：JEOL
IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。
